引言：光刻工藝中的UV監測挑戰

在半導體制造的光刻（Photolithography）工藝中，紫外線（UV）光源的穩定性直接影響晶圓曝光精度。光源強度波動可能導致線寬偏差（CD Variation）、圖案失真，甚至批次報廢。住田光學的UV-300K紫外線傳感器通過實時監測UV光強，成為保障曝光工藝穩定的“隱形防線"。

UV-300K的核心作用：從監測到閉環控制

1. 精準捕捉關鍵波長（365nm/i-line）

半導體光刻常用365nm（i-line）紫外線，UV-300K的高靈敏度探頭（0.3~90 mW/cm2）可實時檢測該波段光強，誤差≤±2% FS，確保曝光能量一致性。

2. 快速響應（≤300ms）匹配高速生產

現代光刻機需高頻曝光，UV-300K的毫秒級響應速度能同步反饋光強變化，避免因延遲導致曝光不均。

3. 閉環控制：聯動光源與PLC系統

• 模擬輸出（4~20mA/1~5V）直接連接光刻機控制系統，動態調節UV燈功率。

• NPN集電極開路信號可觸發報警，在光強異常時自動暫停工藝。

實際案例：解決光刻工藝的三大痛點

痛點1：UV燈老化導致光衰

• 問題：某晶圓廠發現曝光線寬隨生產批次逐漸偏移。

• 解決方案：UV-300K監測到365nm光強下降5%，系統自動補償光源功率，線寬偏差恢復至±1nm以內。

痛點2：環境溫度影響UV輸出

• 問題：夏季車間升溫導致UV燈效率波動。

• 解決方案：UV-300K耐高溫版本（-40°C~+300°C）實時校正光強，曝光均勻性提升20%。

痛點3：多機臺一致性校準

• 問題：不同光刻機曝光能量存在差異。

• 解決方案：通過UV-300K的示教功能統一校準各機臺靈敏度，確保跨設備工藝一致性。

為什么半導體廠商選擇UV-300K？

結語：智能化光刻的監測基石

在半導體制造邁向更小制程（如3nm/2nm）的背景下，UV-300K通過高精度監測+實時反饋，成為曝光工藝穩定的關鍵保障。其價值不僅在于故障預防，更在于推動工藝控制的數字化升級。